赫爾納供應(yīng)德國technologiemanufaktur元件赫爾納供應(yīng)德國technologiemanufaktur元件

赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢供應(yīng),德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品，為您提供一對一好的解決方案，貨期穩(wěn)定。

公司簡介：

我們了解我們的工藝 - 因為我們是技術(shù)制造。 2014年 - 在德國制造

technologie manufaktur光學(xué)元件主要產(chǎn)品：

technologie manufaktur光學(xué)元件

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品特點：

光學(xué)力學(xué)，即現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)建和制造，基于科學(xué)和商業(yè)儀器構(gòu)造的，需要知識和敏感性。因為構(gòu)造須啟用高度準(zhǔn)確的調(diào)整，以便可以將光學(xué)元素在幾微米和拱形分鐘上。

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品應(yīng)用：

technologie manufaktur光學(xué)元件

同時，完成設(shè)備中敏感元素的位置不再在操作過程中更改，并且抵抗溫度波動，振動和振動。光學(xué)原型制作 - 根據(jù)基于軟件的設(shè)計和仿真以及面包板上的一個功能測試 - technologie manufaktur光學(xué)元件

光學(xué)系統(tǒng)實際原型的開發(fā)階段?，F(xiàn)在，他已經(jīng)須擁有要的機械和電氣接口，以便可以準(zhǔn)確測試其功能。在實驗室和實際應(yīng)用中進行了一次測試之后，technologie manufaktur光學(xué)元件

通常會建立二代原型（零序列）（零序列），可以在該原型中進行優(yōu)化和更改請求。從現(xiàn)在開始，它只是產(chǎn)品的一小步，盡管零系列的產(chǎn)生通常在二個原型的實際測試中開始。

technologie manufaktur光學(xué)元件

原型技術(shù)制造商的光學(xué)原型，光學(xué)原型，即原型的光學(xué)機械結(jié)構(gòu)及其電子產(chǎn)品的開發(fā)，與技術(shù)制造中實驗室的面包板上的作品平行。因此，我們通常不會在演示者的構(gòu)造和原型的完成之間花費太多時間。

technologie manufaktur光學(xué)元件

我們設(shè)備齊全的研討會使我們能夠快速構(gòu)建原型，調(diào)整它并衡量其性能。通過這種方式，我們可以對鏡片進行MTF測量，從而在透明度上測量光學(xué)元件的表面，并從紫外線到近紅外吸收光譜。我們使用一個流動箱進行無塵的生產(chǎn)。原型所需的是在我們供應(yīng)商的研討會上制造的。

technologie manufaktur光學(xué)元件

如果光學(xué)系統(tǒng)要提供的測量結(jié)果，則其設(shè)備電子設(shè)備和軟件。電子元素的有解決方案通常是部分高度特定系統(tǒng)要求的佳方法。用于使用的微處理器的固件編程與設(shè)備電子產(chǎn)品的個別生產(chǎn)密切相關(guān)，并提供了能夠從一開始就適應(yīng)它們的優(yōu)勢。technologie manufaktur光學(xué)元件

在光學(xué)系統(tǒng)的原型成功通過了功能測試并成功地在應(yīng)用程序的測試操作中起作用之后，序列的生產(chǎn)開始。在大多數(shù)情況下，在此階段進行的調(diào)整甚至是較小的調(diào)整，但是，不需要進行復(fù)雜的測試。

technologie manufaktur光學(xué)元件

在零系列的生產(chǎn)過程中，測試了所工具和必要的設(shè)備，并在必要時進行配置。單個工作步驟是詳細計劃的，并在生產(chǎn)手冊中進行了仔細的記錄。還建立了測試，后來須通過每個完成的光學(xué)設(shè)備進行測試，并將其結(jié)果記錄在接受報告設(shè)備。

technologie manufaktur光學(xué)元件

光學(xué)設(shè)計是光學(xué)系統(tǒng)開發(fā)的一個也是重要的步驟之一，其中使用軟件設(shè)計光學(xué)設(shè)備，并分析其后期性能。它并不總是須是復(fù)雜的系統(tǒng)：使是合適的目錄Gine也可以顯著提高測量設(shè)備的性能。

technologie manufaktur光學(xué)元件

在算法的幫助下，優(yōu)化了小扁豆和鏡子的半徑，距離和光學(xué)介質(zhì)。耐受性分析表明，需要在操作過程中根據(jù)光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整精度的光學(xué)區(qū)域具有什么質(zhì)量。這些都是用于光學(xué)機械終構(gòu)建的不可少的參數(shù)。